Resina especial para la eliminación de arsénico del agua residual de semiconductores LH-E-As

En el campo de la fabricación de semiconductores, el arsénico es un elemento de impureza común. Su existencia no solo afectará gravemente el rendimiento y la confiabilidad de los chips, sino que también representa una amenaza para el entorno de producción y la salud humana. Mediante el uso de resina de eliminación de arsénico de alta eficiencia, se puede eliminar eficazmente el elemento de arsénico en el agua.

Como materia prima principal de la industria de semiconductores, el arsénico, un elemento metálico pesado tóxico, se descarga parcialmente en las aguas residuales industriales como desecho durante el procesamiento y uso. Si estas aguas residuales se descargan directamente al medio ambiente sin tratamiento, contaminarán el entorno natural y causarán daños a animales, plantas y seres humanos.

Rendimiento y características de una resina especial para la eliminación de arsénico del agua residual de semiconductores LH-E-As

1. Adsorción altamente selectiva:

-Es altamente selectiva para el arsénico y puede adsorber preferentemente iones de arsénico en entornos acuosos complejos. Incluso si hay muchos otros iones, puede garantizar el efecto de eliminación de arsénico. Su capacidad de adsorción selectiva puede alcanzar más del 95%, lo que puede separar eficazmente el arsénico del agua residual y reducir en gran medida el contenido de arsénico en la calidad del agua tratada.

2. Capacidad de eliminación de arsénico eficiente:

-El contenido total de arsénico de la calidad del agua tratada con esta resina puede ser tan bajo como menos de 10 ppb, lo que puede cumplir con los estándares de la industria y los escenarios de aplicación con requisitos extremadamente estrictos para el contenido de arsénico. Es un medio técnico ideal para mejorar el estándar de cuerpos de agua que contienen arsénico.

3. Buena estabilidad física y química:

-En el proceso de tratamiento de agua de calidad compleja como el agua residual de semiconductores, puede mantener la estabilidad de su propia estructura y rendimiento. Puede resistir los efectos de diferentes temperaturas, presiones y diversos productos químicos que pueden estar presentes en el agua residual, garantizando un uso efectivo a largo plazo y reduciendo la frecuencia de reemplazo y los costos operativos causados por propiedades de resina inestables.

4. Gran capacidad de adsorción:

-Tiene una alta capacidad de adsorción de arsénico, puede tratar una gran cantidad de agua residual que contiene arsénico, reducir el uso de resina y el espacio en el equipo, y mejorar la eficiencia de tratamiento y los beneficios económicos.

5. Fácil de regenerar:

-La resina puede restaurar la capacidad de adsorción mediante métodos específicos de regeneración, lo que permite su reutilización, reduce los costos operativos y la generación de residuos. El proceso de regeneración es relativamente simple y fácil de operar, lo que puede garantizar la estabilidad del rendimiento de la resina durante el uso a largo plazo.

6. Amplios campos de aplicación:

-Además del tratamiento de agua residual de semiconductores, la resina LH-E-As también se utiliza ampliamente en la industria química, alimentos, tratamiento de agua potable y otros campos que tienen requisitos estrictos para el contenido de arsénico.

Flujo de proceso general de la resina LH-E-As para la eliminación de arsénico del agua residual de semiconductores:

1. Recolección y pretratamiento de agua residual:

-Recolección clasificada: El agua residual que contiene arsénico generada en el proceso de producción de semiconductores y otros tipos de agua residual se clasifican y recogen para un tratamiento específico posterior.

-Pretratamiento físico: Se eliminan partículas sólidas más grandes, sólidos en suspensión y otras impurezas en el agua residual mediante rejillas, tamices y otros equipos para evitar que causen obstrucciones o daños a equipos y resinas de tratamiento posteriores. Luego se realiza la sedimentación, de modo que algunas partículas grandes de material se asienten naturalmente en el fondo del tanque de sedimentación, eliminando algunas partículas sólidas y sedimentos, y reduciendo la carga del tratamiento posterior.

2. Regulación de la calidad del agua:

-Ajuste de pH: Se detecta el valor de pH del agua residual y se ajusta a un rango adecuado utilizando ácidos o bases según las condiciones aplicables de la resina y las necesidades del tratamiento posterior. Por ejemplo, en algunos casos, puede ser necesario ajustar el pH a neutro o cerca de neutro para garantizar el efecto de adsorción y la estabilidad de la resina.

-Regulación de temperatura: Si la temperatura del agua residual es demasiado alta o demasiado baja, puede afectar el rendimiento de adsorción y la vida útil de la resina. Por lo tanto, es necesario ajustar la temperatura del agua residual a un rango en el que la resina pueda funcionar correctamente mediante calentamiento o enfriamiento.

3. Adsorción de resina:

-Empaquetado de resina: La resina LH-E-As se empaca en equipos como columnas de intercambio iónico o torres de adsorción. Durante el proceso de llenado, es necesario asegurarse de que la resina se llene de manera uniforme y firme para evitar huecos o acumulación desigual de resina y garantizar que el agua residual pueda entrar en contacto completamente con la resina.

-Paso del agua residual a través de la resina: El agua residual pretratada y ajustada en calidad se hace pasar a través de una columna de intercambio iónico o columna de adsorción empacada con resina a una cierta velocidad de flujo. Los iones de arsénico en el agua residual experimentan una reacción de intercambio iónico con los grupos activos de la resina, y los iones de arsénico se adsorben en la resina, mientras que el agua tratada fluye fuera de la columna o columna.

4. Regeneración de resina:

-Selección de regenerante: Cuando la resina de adsorción está saturada, es necesario regenerarla. Los regenerantes comúnmente utilizados son solución de cloruro de sodio, etc. La concentración y dosis del regenerante deben seleccionarse y ajustarse según el tipo de resina, capacidad de adsorción y condiciones de operación reales.

-Proceso de regeneración: Se hace pasar una cierta concentración de regenerante a través de la resina saturada adsorbida en dirección opuesta, de modo que los iones de arsénico adsorbidos en la resina se desorban y se restaure la capacidad de adsorción de la resina al mismo tiempo. El líquido de regeneración que contiene arsénico producido durante el proceso de regeneración debe recogerse y procesarse posteriormente para evitar la contaminación secundaria.

5. Tratamiento posterior:

-Pruebas de agua residual: Se realiza una prueba al agua residual después del tratamiento con resina para garantizar que el contenido de arsénico cumpla con los estándares de descarga nacionales o locales. Si el contenido de arsénico aún excede el estándar, es necesario tratar el agua residual de manera adicional o volver a tratarla con adsorción de resina.

-Descarga estándar o reutilización: Si el agua residual se prueba y califica, se puede descargar en el medio ambiente o reutilizar. Si se reutiliza en el proceso de producción de semiconductores, la calidad del agua debe tratarse y purificarse aún más según los requisitos del proceso de producción.